三年之后的2004年，全球第一台浸润式微影机研发成功。
“浸入式光刻机”一出，基本上宣判了半导体界正在开发的各种“干式”微影技术方案的死刑，因为循着这条技术路径，半导体芯片生产商可以以一个不算高昂的成本将芯片制程从65纳米逐步提升至10纳米以内！
而对于任何一家半导体芯片制造企业来说，制程，都是第一重要的关键因素，是企业的生命线！
制程为什么重要？
答案很简单——因为钱！
在解释清楚这个问题之前，我们首先需要树立一个基本概念——对于芯片制造企业来说，芯片的制造成本与芯片内部的复杂程度无关，而只与芯片的面积有关，换句话说，同样面积的芯片，不管里面包含多少只晶体管、电路多么的复杂，其制造成本几乎是一样的。
这就好比，对一家承接复印业务的誊印社来说，它不会管你复印的那张纸上究竟有多少个字，它只按页数收钱。
明确了这个概念之后，理解下面这个例子就容易了：一块12英寸 304.8mm 直径的晶圆，假设用16nm 工艺可以做出 100 块芯片的话，那么用10nm工艺就可以做出 210 块芯片，于是价格就便宜了一半，在市场上就能死死摁住竞争对手在地上摩擦，赚了钱的同时又可以做更多研发，差距就这么拉开了。
所以，阿斯麦尔的“浸入式光刻机”顿时就成了抢手货，需要排队才能买到，从2004年开始，它只用了短短5年时间，到2009年，其市场占有率就从几乎可以忽略不计一路飙升到了70%，而原先曾经占据50%市场份额的行业老大尼康，其市场占有率顿时就从顶点一路断崖式下坠到了个位数。
尝到了甜头的阿斯麦尔于是又在“极紫外线光刻机EUV”上倾力一搏并再次成功，从此登顶全球光刻机王座，特别是在“极紫外线光刻机EUV”上，取得了惊人的100%市场占有率，绝对垄断！
绝对垄断的生意做起来自然很爽，这台“极紫外线光刻机EUV”的售价高达1.2亿美金，且需全款订货，排队至少一年！
彼时的国际半导体行业流传着一句无奈的调侃：“ASML一打喷嚏，全世界的半导体企业都感冒。”
当然，ASML能登顶成功，也不全是因为技术领先，还有很多的因素在其中发挥了作用——不过那是另一个故事了，咱们今后有机会再说——好吧估计可能没机会了，因为在本时空的米国纽约州阿蒙克市，正在发生如下这场对话：
“林本兼博士，你好，我是“矩阵”实验室的创始人埃里克·谭，很高兴您能同意与我见面，我对您提出的“浸入式光刻”的理论非常感兴趣，我个人认为，这将会是一个改变半导体制程行业的伟大发明，不如，我们深入地探讨一下？”
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